Auf dem 2007 International EUVL-Symposium in Sapporo, Japan, wurde die nächste Stufe der EUV-Lithografie gezündet: Ab sofort werden die Beta-Tools entwickelt, mit denen der Einsatz der EUV-Lithografie endlich unter realen Produktionsbedingungen getestet und optimiert werden kann.
Die Systeme werden ab 2009 installiert. Die Massenfertigung von Computerchips mittels der Nano-Lithografie soll 2011 starten. Damit hat sich EUV praktisch gegen alle konkurrierenden Ansätze (z.B. auf Elektronen- oder Ionenstrahlbasis) durchgesetzt.
Die AIXUV GmbH ist als Entwickler und Hersteller von Mess- und Testkomponenten wieder maßgebend dabei. Schon an der Herstellung der Alpha-Tools war das Aachener Hightech-Unternehmen mit seiner EUV-Lampe für Laboranwendungen sowie mit Komplettsystemen zur EUV-Reflektometrie und zur Photolack-Charakterisierung beteiligt.
Für die Beta-Phase wird AIXUV eine EUV-Laborlichtquelle mit einer Leistung von 10 Watt bei 1KHz auf den Markt bringen. Zeitgleich wird das MBR-Reflektometer zur Vermessung von Masken und Maskenblanks (die zentralen Komponenten bei der Herstellung von Integrierten Schaltungen) für die erhöhten Anforderungen weiterentwickelt. Zu diesem Zweck bildet AIXUV gerade ein Konsortium, an dem das Fraunhofer Institut für Lasertechnik, der Lehrstuhl „Technologie optischer Systeme“ an der RWTH Aachen und weitere Partner beteiligt sein werden.
Für die Entwicklung der EUV-fähigen Photolacke erstellt AIXUV derzeit im Auftrag von SEMATECH, dem weltweit führenden IT-Technologie-Entwickler, eine Konzeptstudie für ein neuartiges EUV-Test-Belichtungssystem, das auf dem Prinzip der Interferenz-Lithografie beruht. In der Simulation konnten bereits 14 nm-Strukturen erzeugt werden. Dieses System soll die Entwicklung geeigneter Photolacke bei den Lackherstellern weltweit beschleunigen helfen.
Damit etabliert AIXUV sich weiterhin in dem entstehenden Milliarden-Dollar-Markt als Entwickler von zentralen Bausteinen für die Herstellung von superschnellen Homecomputern und extrem leistungsstarken Speicherchips.
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